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首頁科晶新品薄膜制備設備 > VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
  • 產品名稱: VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀
  • 上架時間: 2017-09-12
  • 產品編號: 03050104
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產品簡介:VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀是新自主研制開發的鍍膜設備,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜。與同類設備相比,其不僅應用廣泛,且具有體積小便于操作的優點,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備,特別適用于實驗室研究固態電解質及OLED。

 

名稱

VTC-600-3HD三靶磁控濺射儀

產品型號

VTC-600-3HD

安裝條件

本設備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。

1、水:設備配有自循環冷卻水機(加注純凈水或者去離子水)

2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地

3、氣:設備腔室內需注氬氣(純度99.99%以上),需自備氬氣氣瓶(自帶Ø6mm雙卡套

       接頭)及減壓閥

4、工作臺:尺寸1500mm×600mm×700mm,承重200kg以上

5、通風裝置:需要

主要特點

1、配置三個靶槍,一個配套射頻電源用于非導電靶材的濺射鍍膜,兩個配套直流電源用于導電性材料的濺射鍍膜(靶槍可以根據客戶需要任何調換)。

2、可制備多種薄膜,應用廣泛。

3、體積小,操作簡便。

4、整機模塊化設計,真空腔室、真空泵組、控制電源分體式設計,可根據用戶實際需要調整。

5、根據用戶實際需要選擇電源,可以一個電源控制多個靶槍,也可多個電源單一控制靶槍。

技術參數

1、電源電壓:220V  50Hz

2、總功率:2.5KW

3、極限真空度:< E-6mbar(配合本公司設備使用可達到 E-5mbar

4、工作溫度:RT-500℃,精度±1℃(可根據實際需要提升溫度)

5、靶槍數量:3

6、靶槍冷卻方式:水冷

7、靶材尺寸:Ø2,厚度0.1mm-5mm(因靶材材質不同厚度有所不同)

8、直流濺射功率:500W(可選)

9、射頻濺射功率:300W/500W(可選)

10、載樣臺:Ø140mm

11、載樣臺轉速:1rpm-20rpm內可調

12、保護氣體:Ar、N2等惰性氣體

13、進氣氣路:質量流量計控制2路進氣,1流量為100 SCCM,1流量為200 SCCM

產品規格

主機尺寸:500mm×560mm×660mm,整機尺寸:1300mm×660mm×1200mm;重量:160kg

標準配件

1

直流電源控制系統

2

2

射頻電源控制系統

1

3

膜厚監測儀系統

1

4

分子泵(德國進口)

1

5

冷水機

1

6

冷卻水管(Ø6mm

4

可選配件

金、銦、銀、等各種靶材

掩膜版

振動樣品臺

 

 

同VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀操作指導

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